A Novel Silicon on Diamond Structure to Improve Drain Induced Barrier Lowering
Author(s):
Message:
Abstract:
A silicon on diamond structure to improve DIBL is presented. The electrical field penetration through the buried insulator of diamond degrades the DIBL. In the new structure, a second, double insulating material, e.g. SiO2 is added on top of the buried insulator and partially covers the diamond. The second insulating material has lower electrical permittivity. Therefore the fringing field capacitance is smaller. Simulation results of 22 nm silicon-on-diamond transistor shows 18% improvement in DIBL comparing with conventional SOD structure. Lattice temperature increase of 5% is observed in the new structure compared with the conventional SOD which is still well below the silicon on insulator junction temperature.
Language:
English
Published:
Majlesi Journal of Electrical Engineering, Volume:7 Issue: 1, Mar 2013
Page:
66
magiran.com/p1117095  
دانلود و مطالعه متن این مقاله با یکی از روشهای زیر امکان پذیر است:
اشتراک شخصی
با عضویت و پرداخت آنلاین حق اشتراک یک‌ساله به مبلغ 990,000ريال می‌توانید 70 عنوان مطلب دانلود کنید!
اشتراک سازمانی
به کتابخانه دانشگاه یا محل کار خود پیشنهاد کنید تا اشتراک سازمانی این پایگاه را برای دسترسی نامحدود همه کاربران به متن مطالب تهیه نمایند!
توجه!
  • حق عضویت دریافتی صرف حمایت از نشریات عضو و نگهداری، تکمیل و توسعه مگیران می‌شود.
  • پرداخت حق اشتراک و دانلود مقالات اجازه بازنشر آن در سایر رسانه‌های چاپی و دیجیتال را به کاربر نمی‌دهد.
دسترسی سراسری کاربران دانشگاه پیام نور!
اعضای هیئت علمی و دانشجویان دانشگاه پیام نور در سراسر کشور، در صورت ثبت نام با ایمیل دانشگاهی، تا پایان فروردین ماه 1403 به مقالات سایت دسترسی خواهند داشت!
In order to view content subscription is required

Personal subscription
Subscribe magiran.com for 50 € euros via PayPal and download 70 articles during a year.
Organization subscription
Please contact us to subscribe your university or library for unlimited access!