بررسی اثر زمان لایه نشانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک N:ZnO

در این تحقیق لایه های نازک N:ZnO روی زیر لایه شیشه با استفاده از کندوپاش DC در فشار کاری Torr 2-10×2 در مخلوط گازهای آرگون و نیتروژن لایه نشانی شدند. ضخامت، ریخت شناسی، ساختار کریستالی و خواص اپتیکی لایه ها در سه زمان کندوپاش مختلف شناسایی شدند. با افزایش زمان لایه نشانی، ضخامت لایه ها، زبری سطح و ارتفاع دانه ها افزایش می یابد. لایه ها دارای بافت قوی کریستالی در راستای (002) با ساختار هگزاگونال (ورتسایست) هستند. با ورود نیتروژن به درون ساختار بلوری ZnO ثابت شبکه c نسبت به حالت ZnO خالص افزایش می یابد. شکاف باند اپتیکی لایه ها نزدیک 2/ 3 الکترون ولت بدست آمد که با افزایش ضخامت افزایش یافت این نتیجه با طیف سنجی فوتولومینسانس تایید شد. طیف رامان موید نتایج XRD و ورود آلایش نیتروژن به درون ساختار کریستالی اکسید روی بود. ضخامت لایه ها با روش سوین پل محاسبه شد که نزدیک به ضخامت اندازه گیری شده بود.