اثر Co در مغناطو مقاومت نانوساختارهای Ni-Cu/Cu

در این پژوهش چندلایه ای های Ni-Cu/Cu از الکترولیت تک حمام سولفات/سولفامیت با استفاده از روش الکتروانباشت از دو محلول خالص بدون Co و ناخالص با 2/0 درصد Co در مد گالوانواستات-پتانسیواستات در پتانسیل انباشت بهینه شده Cu تهیه شد. اندازه گیری های مغناطو مقاومت در دمای اتاق برای چندلایه ای های Ni-Cu/Cu به عنوان تابعی از ضخامت لایه غیرمغناطیس Cu برای هر دو الکترولیت خالص و ناخالص انجام شد. منحنی های مغناطو مقاومت حاکی از مغناطو مقاومت ناهمسانگرد برای چندلایه ای ها در الکترولیت خالص و مغناطو مقاومت بزرگ برای چندلایه ای ها در الکترولیت ناخالص بود، طوری که بیشینه ی مقدار مغناطو مقاومت برای چندلایه ای Ni-Cu/Cu با ضخامت nm2/4/nm3 به دست آمد. بررسی ساختاری چندلایه ای ها توسط الگوی پراش اشعه ی ایکس انجام شد. الگوی پراش اشعه ی ایکس حضور قله های ماهواره ای که دلالت بر وجود ساختار ابرشبکه ای بود را تایید کرد. ضخامت اسمی چندلایه ای ها nominalΛ با ضخامت حاصل از الگوی پراش اشعه ایکس XRDΛ مقایسه شد که همخوانی قابل توجهی داشت. مورفولوژی نمونه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی انجام شد که دلالت بر یکنواختی انباشت در حین فرایند لایه نشانی داشت. در نهایت مغناطش نمونه ها نیز با استفاده از مغناطوسنج نمونه مرتعش بررسی شد. نتایج نشان داد با کاهش ضخامت لایه ی غیرمغناطیس Cu وادارندگی کاهش و مغناطش اشباع افزایش می یابد.