بررسی کارایی فرآیند فوتوکاتالیستی با استفاده از نانو ذرات دی اکسیدروی در حذف 6،4،2-تری کلروفنول به روش سطح پاسخ

کلروفنول ها یکی از فراوان ترین ترکیبات سمی صنایع هستند که نسبت به تجزیه بیولوژیکی صنایع مقاوم و مدت زمان طولانی در محیط پایدار می ماند. بنابراین باید نسبت به حذف آنها و جلوگیری از آلودگی آب های پذیرنده اقدام نمود. هدف از این مطالعه بررسی کارایی نانوذره دی اکسید روی در حذف6،4،2-تری کلروفنول بر اساس طراحی به روش سطح - پاسخ می باشد.

اثر متغیرهای مستقل از جمله pH محلول، دوز نانو ذرات ،زمان تماس و غلظت اولیه6،4،2-تری کلروفنول بر عملکرد پاسخ (راندمان حذف6،4،2-تری کلروفنول) با روش سطح پاسخ بر مبنای طراحی Box- Behnkenمورد ارزیابی قرار گرفت. جهت انجام آزمایش ها از یک راکتور به حجم 1 لیتر با استفاده از نانو ذرات دی اکسید روی و لامپ UV(15) وات استفاده گردید.

در این مطالعه با بررسی پارامترهای موثر بر این فرآیند مشخص شد که در شرایط بهینه، pHبرابر 3، دوز نانو ذرات دی اکسیدروی برابر4/0 گرم بر لیتر، مدت زمان 72/74 دقیقه و غلظت اولیه6،4،2-تری کلروفنول به میزان 50 میلی گرم بر لیتر راندمان حذف 85/95 درصد حاصل گردید.

نتایج حاصل از آنالیز داده ها نشان داد که فرآیند فوتوکاتالیستی در حضور نانو ذرات دی اکسیدروی سبب تسریع میزان حذف راندمان6،4،2-تری کلروفنول می شود.