مروری بر فرایند تولید سیلیکون متخلخل

در این مقاله، یک سیستم انفجاری قوی معرفی شده است که در آن سیلیکون متخلخل به عنوان زمینه ی میزبان، پذیرای مواد اکسید کننده ی مختلف می باشد. در ابتدا به منظور ایجاد سیلیکون متخلخل و آماده سازی سطح، روش حکاکی الکتروشیمیایی معرفی شده است و سپس محصول بدست آمده برای ایجاد کامپوزیت های مربوطه، تحت شرایط پردازش قرار می گیرد. در این فرآیند، ویفر سیلیکون تک کریستال، در نقش آند برای تشکیل سیلیکون متخلخل اکسایش می یابد. فرآیند اکسایش به پارامترهایی نظیر مقاومت ویژه ی سیلیکون، ترکیب الکترولیت، جهت کریستالو گرافی، دما و دانسیته جریان بستگی دارد. طی واکنش صورت گرفته، سیستم در مجاورت به و تبدیل می شود:Si + 2H+ + 6HF SiF62- + 2H2 + 4H+در مرحله بعد، حفره های ایجاد شده توسط روش های خاصی بوسیله عوامل اکسیدکننده ی مختلف، پر می شود که با توجه به نوع ماده پرکننده، خصوصیات انفجاری محصول به دست آمده تغییر می کند. در این موارد، معمولا نمک های نیترات و پرکلرات به عنوان اجزاء اکسیدکننده استفاده می شوند. محصولات به دست آمده، پایداری مکانیکی مطلوب داشته، به روش های معمول و قابل کنترل مشتعل می شوند و پایداری بلند مدت دارند. میزان انرژی حاصل از عملکرد و سرعت واکنش به دست آمده، قابل پیش بینی بوده و تکرارپذیر است. میزان انرژی حاصل از انفجار، حداکثر KJ/gr28 بوده و دمای احتراق در گستره K 4100-2900 تغییر می کند.