تاثیر غلظت عامل اکسید کننده سیلیکاتی و زمان اکسیداسیون بر خواص لایه تشکیل شده روی آلومینیوم به روش پلاسمای الکترولیتی
نویسنده:
چکیده:
در این تحقیق تاثیر افزایش غلظت عامل اکسید کننده سیلیکات سدیم و زمان عملیات اکسیداسیون پلاسمای الکترولیتی بر روی خواص لایه اکسیدی ایجاد شده بر روی آلومینیم بررسی شد. برای مطالعه ساختار فازی و مورفولوژی سطحی به ترتیب از دستگاه پراش اشعه x (XRD) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و برای تعیین نرخ سایشی از دستگاه تست سایش رفت و برگشتی (Pin on Plate) استفاده شده است. نتایج نشان می دهد که لایه اکسیدی تولید شده به این روش شامل ساختارهای دما بالای آلومینا نظیر فاز Al2O3-α و Al2O3 - γ است که با افزایش غلظت سیلیکات سدیم شدت باریکه ها افزایش و درصد نسبی فازهای دما بالای آلومینا در لایه اکسیدی بیشتر می شود. همچنین تصاویر میکروسکوپی نشان می دهد سطح لایه اکسیدی متخلخل بوده که متاثر از غلظت سیلیکات سدیم و زمان اکسیداسیون است. منحنی حاصل از نتایج سایش نشان می دهد که اکسیداسیون پلاسمایی در الکترولیت مقدار کاهش وزن نمونه ها در حین آزمایش را کاهش می دهد و مقاومت به سایش را بهبود می بخشد.
زبان:
فارسی
در صفحه:
79
لینک کوتاه:
magiran.com/p849372
دانلود و مطالعه متن این مقاله با یکی از روشهای زیر امکان پذیر است:
اشتراک شخصی
با عضویت و پرداخت آنلاین حق اشتراک یکساله به مبلغ 1,390,000ريال میتوانید 70 عنوان مطلب دانلود کنید!
اشتراک سازمانی
به کتابخانه دانشگاه یا محل کار خود پیشنهاد کنید تا اشتراک سازمانی این پایگاه را برای دسترسی نامحدود همه کاربران به متن مطالب تهیه نمایند!
توجه!
- حق عضویت دریافتی صرف حمایت از نشریات عضو و نگهداری، تکمیل و توسعه مگیران میشود.
- پرداخت حق اشتراک و دانلود مقالات اجازه بازنشر آن در سایر رسانههای چاپی و دیجیتال را به کاربر نمیدهد.
دسترسی سراسری کاربران دانشگاه پیام نور!
اعضای هیئت علمی و دانشجویان دانشگاه پیام نور در سراسر کشور، در صورت ثبت نام با ایمیل دانشگاهی، تا پایان فروردین ماه 1403 به مقالات سایت دسترسی خواهند داشت!
In order to view content subscription is required
Personal subscription
Subscribe magiran.com for 70 € euros via PayPal and download 70 articles during a year.
Organization subscription
Please contact us to subscribe your university or library for unlimited access!