الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها

در این تحقیق فیلم های بس لایه ای فلزی Co-Cu/Cu با زوج لایه های نانومتری و با استفاده از روش الکتروانباشت در محلولی حاوی سولفات مس و سولفات کبالت بر زیرلایه بس بلور Ti با بافت های قوی (101) و (103) و (001) با مقادیر مختلف پارامترهای رشد مانند ولتاژ انباشت، ضخامت کل و دمای الکترولیت تهیه شدند. سپس نانو ساختار فیلم های تهیه شده توسط دستگاه پراش پرتویX و ریخت شناسی آن ها توسط میکروسکپ الکترونی روبشی مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج پراش X نمونه ها نشان داد که بس لایه ها دارای ساختار fcc با بافت قوی (111) می باشند. تصاویر SEM نمایانگر رشد ستونی Cu در نمونه ها است. همچنین در بس لایه هایی که تحت ولتاژ انباشت Co منفی تری رشد نموده اند، اندازه دانه ها و ارتفاع ستون های Cu کاهش می یابد. با ازدیاد ضخامت کل اثر نا هماهنگی شبکه ای بین لابه و زیر لایه کمتر مشاهده گردید. در نتیجه با افزایش دمای الکترولیت اندازه دانه های سطحی بس لایه های تولید شده و هم چنین میزان ناخالصی اتم های S در این بس لایه ها افزایش نسبی دارند.