فصلنامه سرامیک ایران
سال شانزدهم شماره 3 (پیاپی 63، پاییز 1399)

در این تحقیق نانو ذرات اکسید روی (ZnO) با استفاده از روش سل ژل سنتز شدند و تاثیر محیط حلال بر خواص ساختاری. مورفولوژیکی و اپتیکی ZnO با استفاده از پراش اشعه ایکس ((XRD)،SEM ،(DRS)و (FTIR-Far)مورد بررسی قرار گرفت. متوسط اندازه بلورکهای ZnO با استفاده از معادله دبای شرر برای نمونه های WZO ،EZO و MZO به ترتیب، 97 /19، 3/21 و 6/28 نانومتر محاسبه شد. الگوهای XRD ساختارتک فاز ورتزیت هگزاگونال را تایید کرد. تصاویر SEM بیانگر ذرات آگلومره تقریبا کروی شکل و دارای توزیع یکنواخت برای هر سه نمونه میباشد. توزیع اندازه ذرات با استفاده از نرم افزار SemAfore برای هر سه نمونه WZO ،EZO و MZO به ترتیب 2/36 و 7/35 و 8/43 تخمین زده شد.

اتوجه به گسترش روز افزون نانوذرات مغناطیسی در حوزه های گوناگون نظیر الکترونیک و میکروالکترونیک، بیولوژیکی، پزشکی و دارورسانی، در دهه گذشته مطالعات بر روی این دسته ازنانوذرات اهمیت بسیاری یافته است. اکسید روی نیمه رسانایی باگاف نواری پهن است. باتوجه به نداشتن هیچ گونه آلودگی زیست محیطی و سهولت سنتزاین اکسید نیم رسانا در اندازه های گوناگون، مادهای مناسب برای کاربردهای مختلف خواهد بود. در این مطالعه، نانوذرات ZnO در محلول آبی همگن در حضور سورفاکتانت 80-Tween از طریق روش میکروامولسیون تهیه شد. اندازه ذرات با استفاده از سورفاکتانت مورد کنترل قرار گرفت. برای بررسی ریخت شناسی و تعیین اندازه نانوذرات سنتز شده، به ترتیب از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) وپراش اشعه ایکس (XRD) استفاده شد. نتیجه های بدست آمده از XRD نشان میدهدکه نانوذرات zo9,zo10,zo11 تهیه شده به ترتیب دارای اندازه بلورک 96/31 و 2/27 و 2/28 نانومتر و دارای ساختار ورتزیت هگزاگونال میباشند. نتیجه ها نشان میدهد که نانوذرات ZnO بااستفاده از روش میکروامولسیون در pH برابر 10 به خوبی شکل میگیرد. تنظیم pH با استفاده از محلول سدیم هیدروکسید صورت گرفت. علاوه براین تاثیر pH محیط برخواص ساختاری، اپتیکی و مورفولوژیکی نانوذرات ZnO با استفاده از آنالیزهای DRS و FTIR-Far مورد بررسی قرار گرفت.

نمونه های شیشه -سرامیکی فسفاتی شفاف آلاییده به یون Nd+3 ساخته شد. ویژگی های فاز ی و ساختار پودر ی نمونه ها به کمک پراش پرتو ایکس مورد بررس ی قرار گرفت و اندازه نانوبلورها با بکارگ یری معادله شرر حدود 45 نانومتر برآورد شد همچنین طیف های برانگیختگی و گسیل نمونه بررسی شد . در نهایت از نمونه شیشه سرامیکی فسفاتی آلاییده به نیودمیوم ساخته شده در داخل، تحت دمش لامپ درخش، گسیل لیزری حاصل شد.

لایه های نازک مزو سیلیس دارای اهمیت و کاربرد زیادی در حوزه های مختلف هستند . کنترل شکل، اندازه و میزان تخلخل های پوشش ها، نقش مهمی در عملکرد این پوشش در کاربردهای مختلف ایفا می کند. به منظور دس تیابی به ویژگی های موردنظر، به کارگیری روش های مناسب اهم یت بس یاری دارد . در میان روش های مختلفی که برای ساخت پوشش های مزوسیلیس مورد استفاده قرار می گیرند، پرکاربردتر ین روش، روش خودآر ایی القاشده با تبخیر است . امکان به کارگیری انواع عوامل فعال سطحی بر ای ایجاد تخلخل، ساخت انواع پوشش با ویژگی های مختلف، قابلیت اعمال پوشش بر انواع زیرلایه با شکل و جنس های گوناگون (فلزی، سرامیکی و پلیمری) از جمله مز ایای این روش هستند . مهم ترین بخش روش خودآرایی القاشده با تبخ ی ر، آماده سازی محلول است و بر ای این کار نیاز است واکنش های صورت گرفته، مراحل آن و نقش هر یک از اجزا به خوبی شناخته شود. در این مقاله مروری به روش خودآر ایی القاشده با تبخیر برای ساخت پوشش های مزوسیلیس، عوامل موثر بر آن و مهم ترین قابلیت های این روش پرداخته می شود.