به جمع مشترکان مگیران بپیوندید!

تنها با پرداخت 70 هزارتومان حق اشتراک سالانه به متن مقالات دسترسی داشته باشید و 100 مقاله را بدون هزینه دیگری دریافت کنید.

برای پرداخت حق اشتراک اگر عضو هستید وارد شوید در غیر این صورت حساب کاربری جدید ایجاد کنید

عضویت
جستجوی مقالات مرتبط با کلیدواژه

diffusion interface

در نشریات گروه مواد و متالورژی
تکرار جستجوی کلیدواژه diffusion interface در نشریات گروه فنی و مهندسی
تکرار جستجوی کلیدواژه diffusion interface در مقالات مجلات علمی
  • علی پورجعفر، رضا دهملایی*، سید رضا علوی زارع، خلیل رنجبر، محمدرضا توکلی شوشتری

    در این پژوهش تاثیر دما بر ریزساختار و لایه واکنشی در فصل مشترک لایه میانی Ti و فلز پایه مربوط به اتصال نفوذی آلیاژ زیرکونیوم 702 به فولاد کم آلیاژ A516 بررسی شد. اتصال  با استفاده از تکنیک اتصال نفوذی پلاسمای جرقه زن در دماهای 900، 950 و 1000 درجه سانتی گراد و مدت زمان 30 دقیقه انجام گردید. به منظور بررسی ریزساختار فصل مشترک اتصال از میکروسکوپ نوری و الکترونی روبشی گسیل میدانی (FESEM) مجهز به آنالیز EDS استفاده شد. بررسی های میکروسکوپی نشان داد که در همه دماها با وجود نفوذ متقابل اتم ها و تشکیل لایه واکنشی مناسب بین لایه میانی تیتانیوم و فلزپایه زیرکونیوم، هیچ گونه فاز بین فلزی، ترک، حفره و ناپیوستگی در فصل مشترک آن ها تشکیل نگردیده است. در فصل مشترک اتصال سه فاز محلول جامد (a+b)(Zr,Ti) وb(Ti,Zr)  وa(Ti,Zr) شناسایی شدند. مشخص گردید که با افزایش دمای اتصال، فازها و ترکیبات جدید در فصل مشترک تشکیل نگردیده ولی ضخامت لایه واکنشی افزایش یافته است. اندازه گیری ضخامت لایه واکنشی نشان داد که بیشترین میزان نفوذ معادل  84 میکرون در دمای  oC1000 و کمترین میزان  نفوذ معادل 64 میکرون در دمای  oC900 صورت گرفته است.

    کلید واژگان: اتصال نفوذی، لایه میانی، فصل مشترک نفوذ، لایه واکنشی، Zr702، تکنیک SPDB
    A. Pourjafar, R. Dehmolaei*, R. Alavi Zaree, Kh. Ranjbar, M.R. Tavakoli Shoushtari

    In this study, the effect of temperature on the microstructure and reactive layer at the interface between the Ti interlayer and the base metal related to the diffusion bonding of Zr702 to A516 low alloy steel was investigated. The joining was done using the spark plasma sintering technique at temperatures of 900, 950 and 1000°C for 30 minutes. Field Emission Scanning Electron Microscope (FESEM) equipped with EDS analysis was used to investigate the microstructure of the interfaces in various joints. Investigations showed that at all temperatures, with the diffusion of atoms and the formation of a reactive layer between the Ti interlayer and Zr702, no intermetallic phases, cracks, porosity and discontinuities were formed at their interfaces. . It was found that increasing the bonding temperature did not cause the formation of new phases and compounds in the interface and only increased the thickness of the reaction layer. The measurement of the thickness of the reactive layer showed that the maximum and minimum amounts of diffusion were 84 microns at 1000 °C and 64 microns at 900 °C respectively

    Keywords: Diffusion bonding, Interlayer, diffusion Interface, reaction layer, Zr702, SPDB Technique
نکته
  • نتایج بر اساس تاریخ انتشار مرتب شده‌اند.
  • کلیدواژه مورد نظر شما تنها در فیلد کلیدواژگان مقالات جستجو شده‌است. به منظور حذف نتایج غیر مرتبط، جستجو تنها در مقالات مجلاتی انجام شده که با مجله ماخذ هم موضوع هستند.
  • در صورتی که می‌خواهید جستجو را در همه موضوعات و با شرایط دیگر تکرار کنید به صفحه جستجوی پیشرفته مجلات مراجعه کنید.
درخواست پشتیبانی - گزارش اشکال