بررسی تاثیر غلظت فسفر بر عملکرد سلول های خورشیدی حالت جامد پایه سیلیکون متخلخل

در پژوهش حاضر، تاثیر غلظت فسفر در محلول آلاینده بر عملکرد سلول های خورشیدی حالت جامد پایه سیلیکون متخلخل مورد بررسی قرار گرفت. برای این منظور بسترهای سیلیکونی به روش حکاکی شیمیایی توسط نقره و با استفاده از محلول حکاکی آبی حاوی هیدروفلوریک اسید و      هیدروژن پروکسید به نسبت های 82/0، 87/0 و 89/0 حکاکی شدند و خصوصیات نوری و سطحی آن ها به ترتیب توسط بازتاب سنجی و میکروسکوپ های نوری و الکترونی روبشی گسیل میدانی مورد ارزیابی قرار گرفتند. در ادامه، سلول های خورشیدی با نفوذ فسفر در سه غلظت 3%، 9% و 15% در محلول آلاینده به درون بستر سیلیکونی با تخلخل بهینه ساخته شدند. نتایج مشخص کرد که سیلیکون حکاکی شده با هیدروفلوریک اسید و هیدروژن پروکسید به نسبت 82/0 به دلیل برخورداری از تخلخل های یکنواخت و با اندازه نزدیک به ذرات  نقره دارای بازتابی در حدود 11% شد که بهترین بستر برای جذب حداکثر میزان نور برخوردی به شمار می رود. بررسی عملکرد فوتوولتاییک سلول های ساخته شده بیانگر افزایش 98% جریان مدار کوتاه سلول آلایش یافته با غلظت 3% از فسفر است که بازده کل سلول را به میزان 6/10% افزایش داده است.