بررسی اثر رسوب نانو ذرات Ag بر خواص فوتوکاتالیستی C3N4 برای حذف آنتی بیوتیک تتراساکلین

برخی آلاینده های آلی می توانند بدون آنکه توسط روش های معمول تصفیه حذف شوند وارد آب آشامیدنی شوند. یک گروه از این آلاینده ها آنتی بیوتیک ها هستند که در صورت حضور در آب و ورود به بدن انسان، به مرورزمان سبب مقاومت باکتری ها می شوند. در تحقیق حاضر نانو لایه های کربن نیترید که یک نیمه هادی در محدوده نور مریی است به روش تجزیه حرارتی دی سیانامید تهیه شد و بر روی آن، نانو ذرات نقره برای افزایش کارایی فوتوکاتالیستی رسوب گذاری شد. خواص فوتوکاتالیستی ماده حاصل برای حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین در آب های آلوده مورد بررسی قرار گرفت. پودر بدست آمده توسط میکروسکپ الکترونی عبوری، پراش اشعه ایکس، آزمون تعیین سطح ویژه و طیف سنجی فرابنفش-مریی مشخصه یابی شد. نتایج نشان داد که کربن نیترید با موفقیت سنتز شده و نانو ذرات نقره با ابعاد 30 نانومتر بر روی سطح کربن نیترید قرارگرفته اند. مقدار شکاف انرژی نمونه کربن نیترید برابر 7/2 الکترون ولت به دست آمد که بعد از کامپوزیت کردن نمونه ها با نقره منطقه جذب نور مریی در محدوده 450 تا 570 نانومتر افزایش می یابد و شکاف انرژی به حدود 67/2 الکترون ولت تغییر می کند. افزودن نانو ذرات نقره با جلوگیری از بازترکیب الکترون-حفره باعث بهبود خواص فوتوکاتالیستی کربن نیترید شده اند. نمونه حاوی دو درصد وزنی نقره دارای بالاترین خواص فوتوکاتالیستی بود. نمونه کامپوزیت تولیدی، آنتی بیوتیک تتراسایکلین را در محلول آبی تا 89 درصد پس از زمان 60 دقیقه تخریب کرد همچنین ثابت سرعت واکنش تخریب از min-1 0087/0 در نمونه کربن نیترید خالص به min-1 036/0 پس از رسوب گذاری نانو ذرات نقره افزایش یافت.