تهیه پوشش نیمه رسانا از نانوورقه های گرافن سنتز شده با لیزر

بهره گیری از رسانایی بالای لایه های نازک، یکی از مهم ترین اهداف پروژه ها در حوزه کاربرد خواص الکترونیکی مواد گرافن دار می باشد. نانوورقه های گرافن، صفحه های موازی متشکل از چندین لایه گرافن با ضخامت کمتر از 100 nm هستند. در این کار ابتدا مستقیما نانوورقه های گرافن سنتز شده با لیزر با کمک پراکنده ساز تجاری DEKAMOL PES، در یک محیط آبی پراکنده شدند که نتیجه آن تشکیل سلی پایدار بود. در این مرحله سل فوق روی لامل پوشش داده شد و رسانایی آنها با دستگاه Kithley I-V meter بررسی گردید. جهت بررسی ساختاری لایه ها از میکروسکوپ نوری و میکروسکوپ الکترونی روبشی و برای بررسی سل از میکروسکوپ الکترونی عبوری و پراش اشعه X استفاده شد. تصاویر میکروسکوپ الکترونی عبوری نشان داد که نانوورقه ها نسبتا خوب پراکنده شده اند و ضخامت آنها کمتر از 5 نانومتر می باشد. الگوی پراش الکترونی نیز حضور تک بلورهای گرافنی را تایید نمود. بررسی لایه ها نشان داد که در شرایط پوشش دهی با استفاده از قطرات با اندازه 3cm1/0 و سرعت پوشش دهی چرخشی بالاتر از rpm400-300، تشکیل لایه یکنواخت رسانا ممکن نیست، درحالی که با کاهش سرعت، افزایش میزان اتصالات و البته ضخامت لایه، در ازای کاهش یکنواختی، مقاومت از حدود 109Ω به Ω 105کاهش می یابد.