بررسی بهبود بخشی پلاسمایی پلاسمای ترکیبی نیتروژن و اکسیژن بر خواص فوتوکاتالیستی لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم

لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم با ضخامت 280 نانومتر با استفاده از روش کندو پاش مغناطیسیDC روی زیر لایه شیشه تهیه شده اند.برای لایه نشانی از هدف فلز تیتانیوم به صورت ورق و گاز ترکیبی آرگون و اکسیژن و زیرلایه ای با دمای 250 درجه سانتی گراد استفاده شده است. دستگاه پراش اشعه X (XRD) فاز آناتاز را برای نمونه ها نشان داده است و توپوگرافی سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) مورد بررسی قرار گرفته است. سپس سیستم به حالت پلاسمای RF تغییر داده شده و اثر بهبود بخشی پلاسمایی پلاسمای ترکیبیN2+O2 بر کاهش غلظت رنگ متیلن بلو در حضور لایه های نازک TiO2 مورد ارزیابی قرار گرفته است. میزان درصد حذف رنگ (R%) و ثابت سرعت واکنش تخریب (k) محاسبه شده است.