تاثیر تغییرات فرکانس در فرآیند رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی بر ترکیب و مورفولوژی پوشش آلیاژ آنتروپی بالای CoCrFeMnNi

در این پژوهش تاثیر تغییر فرکانس پوشش دهی از 2500 به 5000 هرتز در سیکل کاری ثابت 60% بر ترکیب و مورفولوژی سطح پوشش لایه نازک آلیاژ آنتروپی بالای CoCrFeMnNi که به روش رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی سنتز شده، مورد بررسی قرار گرفته است. پوشش آلیاژی از یک حمام کلریدی با حلال آلی دی متیل فرم آمید و استونیتریل، بر روی زیر لایه ی مسی، حاصل شده است. تغییرات ریزساختار، ترکیب شیمیایی و مورفولوژی پوشش ها به ترتیب به کمک پراش پرتو ایکس لایه های نازک (GXRD)، طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس (EDS) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج حاصل از آنالیز EDS نشان داد که تمامی عناصر با موفقیت بر روی زیر لایه مسی رسوب داده شده و با تغییر فرکانس اعمالی (2500 به 5000 هرتز) در سیکل کاری ثابت 60 درصد، ترکیب شیمیایی تغییر کرده است؛ در هر دو حالت آنتروپی اختلاط در حدود J/Kmol 12، در محدوده تشکیل آلیاژ آنتروپی بالا، بوده است. نتایج حاصل از آنالیز GXRD، تشکیل ساختار محلول جامد با شبکه FCC را تایید نمود. در سطح پوشش ایجاد شده در فرکانس 2500 هرتز ذرات به صورت غیر کروی و آگلومره بوده و اندازه کریستالیت ها در حدود 217 نانومتر محاسبه شده است. مورفولوژی پوشش ایجاد شده در فرکانس 5000 هرتز دارای ترک های شاخه ای، برآمدگی ها و تاول های هیدروژنی و همچنین ذرات غیر کروی در سطح پوشش بوده و اندازه کریستالیت ها در حدود 109 نانومتر اندازه گیری شده است.