سنتز قابل کنترل نانومیله های ZnO بر روی زیرلایه مش فولاد ضد زنگ برای تخریب فوتوکاتالیستی آلاینده های آلی

در این تحقیق، نانومیله های اکسید روی (ZnO) با روش رسوب حمام شیمیایی (CBD) بر روی مش فولادی 400 برای تجزیه فوتوکاتالیستی دو آلاینده آلی رنگ متیلن بلو (MB) و آنتی بیوتیک تتراسایکلین (TC) سنتز شدند. پارامترهای مختلفی از جمله غلظت محلول هسته زایی، تعداد چرخه های رسوب گذاری و دمای رشد برای رسیدن به حالت بهینه رشد اکسید روی مورد مطالعه قرار گرفتند. نمونه بهینه با زمان رشد 3 ساعت در دمای 95 درجه سانتیگراد و غلظت 5 میلی مولار روی استات به عنوان محلول هسته برای آزمایش های تخریب فوتوکاتالیستی استفاده شد. تجزیه و تحلیل طیف سنجی بازتابی منتشر (DRS) شکاف انرژی eV 3.2 را برای نانومیله های اکسید روی نشان داد. ثابت های سرعت تخریب نوری برای حذف MB و TC به ترتیب 0.0121 و 0.0043 بر دقیقه بود. همچنین، مکانیسم تخریب فوتوکاتالیستی برای پیشنهاد تولید بار و مسیر انتقال مورد مطالعه قرار گرفت.