بررسی نانومیله های ZnO آلاییده با نیکل روی شیشه تهیه شده به روش لایه نشانی رسوب حمام شیمیایی

در این مقاله، نانومیله های (NRs) اکسید روی آلاییده با نیکل  با غلظت های (0٪، 1٪، 2٪ و 4٪) به روش لایه نشانی حمام شیمیایی در دمای (85-90) درجه سانتی گراد با موفقیت بر روی لام های شیشه ای رشد داده شد. پراش پرتو ایکس (XRD)، تصویربرداری میکروسکوپی الکترونی روبشی گسیل میدانی (FESEM) و طیف سنجی UV-Vis برای مشخصه یابی لایه های تهیه شده انجام شد. اندازه گیری های پراش پرتو ایکس نمونه ها نشان داد که تمامی لایه های تهیه شده ساختار بلوری نوع شش وجهی با رشد غالب در جهت (002) و کاهش شدت قله مربوطه با افزایش آلایش نیکل دارند. تصاویر FESEM به وضوح افزایش قطر میانگین نانومیله های ZnO را با افزایش درصد آلایش نشان می دهد. گاف نواری لایه های اولیه ZnO و نانومیله های بدون آلایش ZnO روی شیشه به ترتیب 25/3 و 2/3 الکترون ولت اندازه گیری شد. مقادیر گاف انرژی اپتیکی ZnO آلاییده با نیکل در حدود (12/3، 09/3، 3) الکترون ولت با افزایش نرخ آلایش است. نتایج اندازه گیری های اپتیکی و ساختاری برای محاسبه میکروکرنش (ε) لایه های اکسید روی آلاییده با نیکل در جهت های (100)، (002) و (101) استفاده شد.