مطالعه تاثیر شدت تابش پرتو فرابنفش در حذف فتوکاتالیستی اشرشیاکلی با استفاده از نانو ذرات اکسید روی تثبیت شده

فرآیندهای اکسیداسیون پیشرفته یکی از روش های متداول پیشنهادی تصفیه فاضلاب می باشند که طیف وسیعی از آلاینده های آلی و عوامل میکروبی را با کارائی مطلوبی به طور کامل تجزیه می نمایند. این تحقیق با هدف مطالعه اثر شدت تابش پرتو فرابنفش در حذف کامل فتوکاتالیستی باکتری اشرشیاکلی بوسیله نانوذرات اکسید روی تثبیت شده بر روی صفحات شیشه ای انجام شد.

ویژگی های نانو ذرات اکسیدروی با استفاده از میکروسکوپ الکترونی مجهز به سیستم (EDX) و روش (XRD) تعیین گردید. نانو ذرات اکسید روی زیر 50 نانومتر به روش حرارتی بر روی صفحات شیشه ای تثبیت شد. نمونه های آب حاوی مقادیر مختلف از باکتری اشرشیاکلی در یک راکتور نیمه پیوسته چرخشی با رژیم پیستونی در معرض شدت تابش های مختلف حاصل از لامپ های UVA و UVC مدادی 4 و 8 وات قرار داده شدند و اثر عوامل موثر مانند شدت تابش، مدت تابش، مقدار اولیه باکتری و شدت جریان راکتور در حذف فتوکاتالیستی باکتری اشرشیا کلی مورد مطالعه قرار گرفت.

نتایج این تحقیق نشان داد که با افزایش شدت تابش نور فرابنفش تا حدی کارائی فرآیند فتوکاتالیستی افزوده می شود و از آن حد به بعد تاثیری بر کارائی فرایند ندارد. افزایش فاصله لامپ از سطح آب در راکتور مورد آزمایش، باعث کاهش شدت تابش دریافتی و در نتیجه کاهش کارائی فرایند در حذف باکتری اشرشیاکلی می شود. افزایش تعداد لایه های تثبیت شده نانوذرات اکسیدروی هم تاثیری در جهت افزایش کارائی فرایند نداشت.

کاربرد نانوذرات تثبیت شده اکسیدروی جهت حذف فتوکاتالیستی اشرشیاکلی روش جدید و قابل توسعه ای است. نتایج این مطالعه نشان دادکه فرایند فتوکاتالیستی با استفاده از نانو ذرات تثبیت شده اکسید روی تحت تابش پرتو UVA قادر به حذف باکتری اشرشیاکلی از آب بایک شدت تابش بهینهW/cm2μ 240به کمک دولامپ8 وات طی مدت تماس30 دقیقه می باشد.