تاثیر پتانسیل زتا بر نحوه رسوب نانوذرات خنثی در پوشش های نانوکامپوزیتی حاصل از آبکاری الکتریکی منقطع

در فرآیند آبکاری الکتریکی به خوبی می توان با استفاده از اضافه شونده های کمپلکس ساز درصد عناصر آلیاژی را در پوشش های آلیاژی کنترل نمود و این در حالی است که برای ایجاد پوششهای کامپوزیتی دارای ذرات خنثی به راحتی نمی توان نوع و درصد ذرات رسوبی را کنترل نمود. در این تحقیق جهت کنترل درصد ذرات خنثی در پوششهای کامپوزیتی از خاصیت پتانسیل زتا و عوامل موثر بر آن استفاده شده است. به این ترتیب با استفاده از حمام واتز و ذرات نانوآلومینا پوشش کامپوزتی زمینه نیکلی بر روی ورقه های مسی به روش آبکاری الکتریکی منقطع تهیه و ضمن تغییر پارامترهای آبکاری، پوشش به دست آمده به وسیله میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM همراه با روش های آنالیزی EDX و XRD مورد بررسی قرار گرفت. نتایج حاصله نشان می دهد با توجه به اینکه افزایش pH محلول عموما، کاهش پتانسیل زتا را به دنبال دارد، پس می توان نتیجه گرفت که pH محلول و چگالی جریان از مهمترین پارامترهای موثر بر میزان رسوب نانوذرات خنثی در پوشش خواهد بود. لذا با تغییر این دو پارامتر می توان به طور نسبی درصد ذرات نانو را در پوشش تحت کنترل قرار داد.