تولید نانوذرات و پوشش های نانوساختار هیدروکسی آپاتیت به روش سل - ژل

در این پژوهش روش سل – ژل نیز برای پوشش دهی مستقیم هیدروکسی آپایت بر روی ایمپلنت های تحت بار مورد استفاده قرار گرفت. در این راستا نانو ذرات و پوشش های نانوساختار هیدروکسی آپاتیت به روش سل – ژل و با استفاده از مواد اولیه شامل پنتا اکسید فسفر (P2O5) و نیترات کلسیم تتراهیدرات (Ca(NO3)2.4H2O)، تهیه شد. تاثیر دما و زمان کلسینه کردن بر اندازه دانه و ترکیب فازی پودر هیدروکسی آپاتیت، ضخامت و فصل مشترک پوشش و زیر لایه و ترکیب فازی پوشش با استفاده از تکنیک پراش پرتو ایکس (XRD)، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) مطالعه شد. تاثیر دمای کلسیناسیون و زمان پیرسازی بر ساختار فازی و مورفولوژ پوشش ارزیابی شد. نتایج به دست آمده نشان داد که در گستره دمایی 600-7000C فاز غالب در محصول تولیدی، هیدروکسی آپاتیت است. فاز هیدروکسی آپاتیت خالص در دماهای کلسینه کردن کمتر از 7000C به دست آمد. پودرهای 32-25 نانومتری با استفاده از این روش تولید شد. نتایج نشان داد با استفاده از روش سل – ژل می توان به پوشش های نانو ساختار هیدروکسی آپاتیت با اندازه دانه 35 نانو متر دست یافت. بررسی ها نشان داد که با کلسینه کردن در دمای 600 درجه سانتی گراد پوشش تک فاز هیدروکسی آپاتیت قابل دستیابی است. زمان بهینه پیرسازی برای ایجاد پوشش عاری از ترک و با پیوستگی مناسب به زیر لایه، 24 ساعت تعیین گردید.