ایجاد نانو ساختار روی سطح پلی استایرن با استفاده از لیزر اکسایمر ArF برای افزایش زیست سازگاری
در این تحقیق، سطح فیلم های پلی استایرن با استفاده از لیزر اکسایمر ArF با طول موج nm 193و در تعداد پالس های متفاوت 1، 5 و 10 اصلاح شد. تغییرات سطحی با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی(AFM)، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، بازتاب کلی تضعیف شده تبدیل فوریه مادون قرمز (ATR-FTIR) و اندازه گیری های زاویه تماس بررسی شد. جهت بررسی تغییرات زیست سازگاری سطح پلی استایرن بعد از تابش دهی توسط لیزر، از کشت سلول های L 929 استفاده شد.
تصاویر SEM و AFM حاکی از ایجاد نانو ساختارهایی بر روی سطح پلی استایرن بعد از تابش دهی بود. این تصاویر نشان داد با افزایش تعداد پالس ها، اندازه ساختار های ایجاد شده بیشتر شد. بررسی تغییرات آبدوستی و انرژی آزاد سطحی نمونه ها نشان داد، پس از اصلاح نمونه ها توسط لیزر با 1 پالس ابتدا قطبیت سطح افزایش و پس از آن با افزایش تعداد پالس ها به 5 و 10 کاهش یافت. بررسی تغییرات شیمیایی توسط طیف ATR-FTIR نشان دهنده تشکیل شدن گروه های قطبی مثل پراکسید و هیدروکسیل بر روی سطح پلی استایرن بعد از انجام پرتودهی با لیزر است. نتایج حاصل از کشت سلولی نشانگر افزایش زیست سازگاری پلی استایرن اصلاح شده با لیزر بود.
- حق عضویت دریافتی صرف حمایت از نشریات عضو و نگهداری، تکمیل و توسعه مگیران میشود.
- پرداخت حق اشتراک و دانلود مقالات اجازه بازنشر آن در سایر رسانههای چاپی و دیجیتال را به کاربر نمیدهد.