دانشجوی کارشناسی ارشد،بخش مهندسی مکانیک،دانشگاه آزاد اسلامی،واحد علوم و تحقیقات مرکزی- اراک، ایران

فلز مس به دلیل ویژگی های مطلوب مکانیکی و الکتریکی کاربردهای صنعتی بسیاری دارد. اگر چه فلز مس و آلیاژهای آن عموما به عنوان مواد مقاوم در برابر خوردگی شناخته شده اند، ولی با توجه به محیطی که در آن بکار گرفته می شوند، هنوز انواع گوناگونی از خوردگی را متحمل می شوند که عموما کاربرد عملی آن ها را محدود می کند. روشی موثر که می تواند این مشکل را حل کند، اصلاح سطح با استفاده از فیلم های لایه نازک خود مجموعه ساز است. تک لایه های خودمجموعه ساز سامانه های ساده و انعطاف پذیری هستندکه به عنوان یک لایه ایزوله عمل کرده و از نفوذ کلرید به سطح جلوگیری می کند. در این پژوهش، دو شیف باز N وN’- بیس (سالیسیدن)-1 و 3 - پروپان دی آمین (شیف باز1) و N وN’- بیس (4- متوکسی سالیسیدن)-1 و 3 - پروپان دی آمین(شیف باز2) به صورت لایه نازک خود مجموعه ساز به عنوان بازدارنده خوردگی مس در محلول اسیدکلریدریک 5/0 مولار سنتز و بازده بازدارندگی آن ها به وسیله آزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی و طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی، بررسی شد. نتایج آزمون پلاریزاسیون نشان داد که این تک لایه های خود مجموعه ساز به عنوان باردارنده های مختلط عمل می کند و هر دو فرآیند کاتدی و آندی را متوقف می سازد. افزایش قطر منحنی ها در اندازه گیری های امپدانس نشان می دهد که تک لایه ها به عنوان بازدارنده های خوبی عمل می کنند. نتایج بدست آمده از روش پلاریزاسیون و امپدانس از مطابقت مطلوبی برخوردارند و نشان می دهند که با افزایش غلظت بازدارنده، بازدارندگی تا 95 درصد افزایش می یابد. ورود گروه متوکسی در حلقه بنزن شیف باز نیز در کل باعث افزایش بازده بازدارندگی شیف باز شد که می تواند ناشی از اثرات دهندگی الکترون و اثرات آب گریزی این گروه باشد.