ریزساختار و خواص لایه های نازک اکسید وانادیم(VOx) تهیه شده در دستگاه کند و پاش مغناطیسی واکنشی

لایه های نازک اکسید وانادیم(VOx) در سیستم کند و پاش مغناطیسی جریان مستقیم تهیه شدند. به منظور دستیابی به فازهایمختلف از اکسید وانادیم، نمونه ها تحت دماها و اتمسفرهای مختلف آنیل شدند. در ابتدالایه های نازک اکسید وانادیم(VOx)بدست آمده در دو دمای مختلف 450 و 500oC آنیل شدند. هر دو لایه شامل ترکیبی از فازهای VO2(M) و V2O5 بودند. فاز غالب در دمای 450oC فاز VO2(M) بود که در دمای 500oC به فاز V2O5 تبدیل شد. در مرحله ی بعد لایه های نازک اکسید وانادیم)(VOx در دو فشار 2 و 5 torr در دمای 450oC آنیل شدند.نتایج حاصل نشان داد که فشار لایه نشانی تاثیر چندانی بر ساختار کریستالی پوشش نهایی ندارد در عوض لایه نازک اکسید وانادیم)(VOxتهیه شده تحت فشار کندو پاش پایینتر دارای اندازه دانه کوچکتر و مقادیر سختی و مدول یانگ بالاتر بود. سپس اثرات اتمسفر آنیل بر ریزساختار و خواص لایه های نازک اکسید وانادیم)(VOx تهیه شده در فشار کندوپاش 2 torr و آنیل شده در دمای 450oC مورد بررسی قرار گرفت. اتمسفر آنیل تاثیر چندانی بر ساختار کریستالی لایه ها نداشت و هر دو لایه شامل مخلوطی از فازهای VO2(M) و V2O5 بودند. احتمال آن می رود که بخشی از فازهای شکل گرفته در سیستم به صورت آمورف باشند. لایه نازک اکسید وانادیم)(VOx آنیل شده تحت اتمسفر اکسیژن دارای اندازه دانه کوچکتر و خواص مکانیکی بهتر بود. نتایج حاصل از مطالعه حاصل نشان داد که شرایط لایه نشانی و آنیل تاثیر به سزایی بر ریزساختار و خواص مکانیکی لایه های نازک اکسید وانادیم(VOx) دارند.