اثرات تنش خشکی و بر همکنش آن با سیلیکون بر سامانه آنتی اکسیدان و میزان پراکسیداسیون لیپیدی رازیانه (Foeniculum vulgar)

تنش خشکی باعث تحریک ساخته شدن گونه های اکسیژن فعال در کلروپلاست های گیاهی می شود. گونه های اکسیژن فعال نیز سبب پراکسیداسیون لیپیدهای غشایی و تخریب غشای سلولی می شوند. در این پژوهش، اثر غلظت های متفاوت سیلیکون بر تنش اکسیداتیو ناشی از خشکی در گیاه رازیانه بررسی شد. آزمایش به صورت اسپلیت پلات در قالب طرح پایه بلوک های کامل تصادفی با سه تکرار انجام گرفت. فاکتور اصلی تنش خشکی بود که بر اساس آبیاری در 100 درصد، 70 درصد و 40 درصد ظرفیت زراعی اعمال گردید و فاکتور فرعی نیز محلول پاشی سیلیکون در پنج سطح (صفر، 5/2، 5، 5/7 و 10 میلی مولار) بود. این آزمایش در مزرعه دانشگاه زابل در سال 1393 انجام گرفت. نتایج نشان داد تنش خشکی باعث کاهش معنی دار کلروفیل a و کلروفیل b، کارتنوئیدها، محتوای نسبی آب برگ و فعالیت آنزیم کاتالاز شد. میزان مالون دی آلدئید و نشت الکترولیت ها در شرایط خشکی به میزان دو برابر نسبت به شاهد افزایش نشان دادند. محلول پاشی سیلیکون در زمان آبیاری کامل اختلاف معنی داری با تیمار شاهد از نظر صفات مورد بررسی نشان نداد، ولی در شرایط تنش شدید خشکی تیمار 5/7 میلی مولار سیلیکون میزان فعالیت آنزیم پراکسیداز، آسکوربات پراکسیداز، پرولین و قند های محلول را به ترتیب 18، 25، 14 و 28 درصد افزایش و مالون دی آلدئید و نشت الکترولیت ها را به میزان 30 و 28 درصد نسبت به تیمار شاهد کاهش داد. با توجه به نتایج به دست آمده محلول پاشی غلظت های 5 و 5/7 میلی مولار سیلیکون توانست با تقویت سیستم آنتی اکسیدان گیاه و افزایش میزان اسمولیت ها، توانایی گیاه رازیانه را در پاسخ به تنش خشکی افزایش دهد و اثر محافظتی در برابر پراکسیداسیون لیپیدها (که ناشی از تنش خشکی می باشد) داشته باشد.