بررسی تاثیر حرارت دهی بر فعالیت فوتوکاتالیستی نانوساختارهای روی سولفید سنتز شده به روش هم رسوبی

نانوساختارهای روی سولفید به روش ساده، سبز و مقرون به صرفه ی هم رسوبی با استفاده از اسید آمینه ال-سیستیین سنتز شدند. پس از سنتز و حرارت دهی نانوساختارها، نمونه های بدست آمده توسط دستگاه های شناسایی مختلفی مانند، الگوی پراش پرتو ایکس(XRD)، طیف سنجی تبدیل فوریه مادون قرمز(FTIR) ، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، الگوی پراش انرژی پرتو ایکس (EDX) و طیف جذبی فرابنفش (UV) مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج حاصل از XRD و FTIR نشان داد که نانوساختارهای روی سولفید با ساختار شش گوشی سنتز شده اند. نتایج طیف جذبی فرابنفش نشان داد که با افزایش دمای حرارت دهی، گاف انرژی نمونه ها کوچکتر و اندازه ی نانوساختارها بزرگتر می شود. نانوساختارهای تهیه شده، برای بررسی فعالیت فوتوکاتالیستی استفاده شدند. مشاهده شد که با افزایش دما، بازده ی فوتوکاتالیستی نانوساختارها کاهش یافته است.