تعیین مشخصه های اپتیکی لایه های نازک هنگام فرآیند لایه گذاری در خلاء بدون اندازه گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه

در این مقاله مشخصه های اپتیکی لایه های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلاء بوسیله یک روش نسبتا ساده اندازه گیری می شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (Ti) به مقدار بیشینه آن (Ta) یعنی Gt=1min/1max=Ti/Ta از طریق روابط فرنل بدون اندازه گیری مستقیم ضریب عبور می توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه های اپتیکی مواد As2S3، Na3AIF6، PbF2، MgF2، ZnS انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نور سنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لایه ای حساب به نور ارائه می شود.