تاثیر پارامترهای لیزر (فرکانس و شاریدگی) بر مشخصه های نوری و ساختاری لایه های اکسید روی رسوب داده شده به روش رسوب لیزر پالسی
لایه نشانی لیزر پالسی به دلیل مزیت های منحصر به فردی که در رشد مواد مختلف دارد یک روش سنتز کارآمد است. علاوه بر این کیفیت لایه های نازک به پارامترهای مختلف فرآیند لایه نشانی بستگی دارد. ضمن این که اکسید روی به خاطر ویژگی های منحصر به فردش کاربردهای فراوانی در ساخت ادوات اپتیکی، الکترونیکی و الکترواپتیکی دارد. ما یک چیدمان لایه نشانی لیزر پالسی را برپا کرده ایم تا لایه های نازک ZnO را روی زیرلایه های شیشه ای انباشته کنیم. این پژوهش مشخصه های ساختاری و اپتیکی لایه های انباشته شده با دو نرخ تکرار پالس متفاوت را بررسی می کند. براساس عکس های میکروسکوپ اپتیکی و میکروگراف های میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM به دست آمده از لایه ها افزایش نرخ تکرار پالس، یکنواختی توزیع اندازه ذرات را افزایش می دهد و ضخامت لایه را بیش تر می کند. هم چنین مشخصه های اپتیکی که به کمک اسپکتروسکوپی مریی- فرابنفش بررسی شده، نشان می دهد نرخ جذب و عبور، گاف انرژی و کیفیت کریستالی لایه ها با تغییر نرخ تکرار پالس قابل تنظیم است.
- حق عضویت دریافتی صرف حمایت از نشریات عضو و نگهداری، تکمیل و توسعه مگیران میشود.
- پرداخت حق اشتراک و دانلود مقالات اجازه بازنشر آن در سایر رسانههای چاپی و دیجیتال را به کاربر نمیدهد.