تاثیر محلول پاشی با اسید سالیسیلیک بر کاهش اثرات کم آبی در گیاه ریحان مقدس (Ocimum sanctum)

کمبود آب یکی از اساسی ترین مشکلات سیستم های کشاورزی در سراسر جهان است که بر عملکرد و کیفیت محصول تاثیر می گذارد. استفاده از ترکیباتی مانند اسید سالیسیلیک می تواند مقاومت گیاه را در برابر تنش های محیطی بهبود بخشد. آزمایش حاضر به منظور بررسی تاثیر سطوح مختلف آبیاری و کاربرد اسید سالیسیلیک بر صفات کمی و کیفی ریحان مقدس (Ocimm sanctum) ، به صورت فاکتوریل در قالب طرح کاملا تصادفی در سه تکرار انجام گرفت. تیمارهای آزمایش شامل تنش خشکی در سه سطح (100، 70 و 50 درصد ظرفیت زراعی) و محلول پاشی با اسید سالیسیلیک در سه سطح (0، 75/0 و 5/1 میلی مولار) بود. نتایج نشان داد که کمبود آب سبب کاهش معنی دار شاخص های رشدی گیاه، محتوای نسبی آب برگ و مقدار رنگدانه های فتوسنتزی گردید، در حالی که محلول پاشی با اسید سالیسیلیک باعث افزایش پارامترهای مذکور شد. تنش خشکی و محلول پاشی با اسید سالیسیلیک، باعث افزایش محتوای پرولین، محتوای تام ترکیبات فنولی و فلاونوییدی، و مهار رادیکالهای آزاد DPPH شد. علاوه بر این، درصد اسانس تحت تنش خشکی افزایش یافت. همچنین، در گیاهانی که با اسید سالیسیلیک محلول پاشی شده بودند ، درصد اسانس افزایش معنی داری را نسبت به تیمار شاهد نشان داد. با کاهش آب آبیاری، از درصد اوژنول اسانس کاسته شد، اما محلول پاشی با غلظت بالای اسید سالیسیلیک سبب افزایش این ترکیب گردید. تیمارهای آزمایشی بر درصد 1و 8-سینیول و استراگول نیز تاثیر داشتند. بنابراین، استفاده از مقدار مناسب اسید سالیسیلیک را می توان به عنوان یک راهکار عملی و ساده برای افزایش کیفیت و کمیت پیکر رویشی ریحان مقدس، در مناطق خشک و نیمه خشک در نظر گرفت.